Informacion Del Producto
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Megasónica/Ultrasónica
Resumenes Tecnicos
TB 44: Control preciso del O2 y N2 disueltos
Control preciso de los gases O2 y N2 en aplicaciones de limpieza de placas de contacto de semiconductores.
TB 41: Agua activada para una mejor limpieza megasónica
Mejor limpieza megasónica de las placas de contacto con agua activada mediante hidrógeno y contactores Liqui-Cel®.
TB 34: Los contactores de membrana Liqui-Cel® se utilizan para mejorar el rendimiento de la limpieza megasónica
Los desafíos de la limpieza megasónica están resueltos con control total de gases mediante los contactores Liqui-Cel®. Extraiga el O2 del agua mientras le agrega N2.
Mas Informacion
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Información general Folleto
Hojas de Datos
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Calibración del Sistema Y Estimación de Costos
La irradiación megasónica es un proceso común utilizado para extraer partículas, metales y sustancias orgánicas de la superficie de semiconductores y otros materiales. Este proceso exige baños de agua en que las placas de contacto de los semiconductores se sumergen, y se envían pulsos ultrasónicos a través del agua para eliminar algunos de estos contaminantes. Si hay burbujas en el baño de agua, el proceso megasónico sufre un impacto negativo. Al mismo tiempo, también se ha demostrado que una pequeña cantidad de hidrógeno o nitrógeno disuelto en el baño de agua megasónico refuerza el proceso de limpieza. Los contactores de membrana Liqui-Cel constituyen la solución ideal para mejorar el rendimiento de la limpieza megasónica debido a que pueden extraer el oxígeno y disolver el nitrógeno o hidrógeno en el agua en un solo paso. Los contactores Liqui-Cel difunden el gas en el agua a nivel molecular de una manera muy controlada de modo que no haya formación de burbujas. Las burbujas también tienen un impacto negativo en el proceso de limpieza, por lo que la difusión molecular de los gases es muy importante.
